光刻机在半导体制造中扮演着至关重要的角色，用于将芯片上的电路图案投影到硅片上。微孔滤芯过滤器在光刻机中有以下几个主要应用：

光刻机光源的净化：在光刻机中，光源的稳定和纯净度对于曝光的质量至关重要。微孔滤芯过滤器被用于对光源进行净化处理，去除其中的微小颗粒和杂质，确保光线的纯净度，以获得高质量的曝光结果。

接触式和非接触式掩模板的清洁：在光刻机中使用的掩模板需要保持极高的洁净度，以确保芯片的曝光质量。微孔滤芯过滤器可以用于对清洁溶液或清洗气体进行过滤，去除其中的微粒和杂质，确保掩模板的清洁度。

曝光液的净化：在光刻机中使用的曝光液需要保持高纯度，以确保曝光时的图案清晰度和精准度。微孔滤芯过滤器可以用于对曝光液进行精细过滤，去除其中的微小颗粒和杂质，确保曝光液的高纯度。

微孔滤芯过滤器在光刻机中主要应用于光源的净化、掩模板的清洁和曝光液的净化等环节，以确保光刻机曝光过程中的稳定性和曝光质量。这些应用对于保证半导体芯片的制造质量和性能具有重要意义。